Ekstremni izvori svjetlosti
Poluvodička industrija ima kontinuirane zahtjeve za sve gušćim i gušćim pakiranjima elektroničkih sklopova. Klasična “193 nm immersed” fotolitografija pomoću ArF lasera dosegla je svoju granicu glede tih zahtjeva (prostorno razlučivanje od 50 nm). Kao odgovor javlja se fotolitografija nove generacije – EUV fotolitografija temeljena na upotrebi laserski proizvedenih plazmi kao izvora svjetlosti u EUV/XUV području, što omogućuje razlučivanje ispod 22 nm. Razvoj takvih izvora svjetlosti u snažnom je uzletu. Problemi koji se pritom javljaju vezani su uz intenzitet dobivene svjetlosti u EUV i XUV spektralnom području te uz izradu reflektivne optike za preslikavanje svjetlosti na masku za štampanje električnih krugova.
Razvoj attosekundne (1 as = 10-18 s) fizike omogućuje uvid u svijet ultrabrzih procesa u prirodi koji su neuhvatljivi drugim tehnikama. Njen razvoj usko je vezan uz razvoj eksperimentalne tehnike generacije viših harmonika svjetlosti prilikom međudjelovanja femtosekundnih (1 fs = 10-15 s) laserskih pulseva s neutralnim plemenitim plinom (Ar, He), gdje pod djelovanjem električnog polja lasera dolazi do oslobađanja elektrona, njegovog ubrzanja te ponovnog sudara s atomom pri čemu dolazi do emisije viših harmonika laserske svjetlosti. Ograničenja tako generirane svjetlosti (slab intenzitet i postojanje granične valne duljine) potencijalno se mogu savladati korištenjem slaboionizirane laserski proizvedene plazme umjesto plemenitih plinova.
